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11月14日消息，虽然目前美日荷均出台了政策，限制先进半导体设备的对华出口，但是中国进口的半导体设备金额仍在快速增长。 根据日经新闻报道，分析中国海关的数据显示，今年三季度（7-9月）中国
快科技11月6日消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）表示，自家在中国市场明年业务非常乐观。 ASML中国区总裁沈波强调，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%
ASML已经获得荷兰官方的允许，在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。 按照ASML的说法，在2023年的剩余时间里，ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品，这些产品从9月1日起
快科技7月24日消息，据日本媒体报道称，从今天开始，日本实施尖端半导体出口管制。 报道指出，除美国、韩国等42个国家及地区外，23个品类等出口时每次都需要获得经产相许可，此前原则上无需获得
快科技6月27日，EUV光刻当前是半导体工艺中最先进的技术，7nm以下工艺都离不开，日本近年来也希望重新掌握先进工艺，不仅成立了Rapidus公司研发2nm工艺，日前更是突然收购了JSR公司，后者是全球
快科技4月10日消息，南大广电在互动平台表示，该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证，并少量销售。 南大光电表示，公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片
除了光刻机之外，先进半导体工艺还依赖光刻胶，这方面的供应也主要是靠美日等公司，如今国产光刻胶已经在部分领域取得突破，晶瑞电材日前透露他们的光刻胶已经可以用于0.25-0.13um工艺，也就是2
ASML上周已经声明，高端DUV光刻机可以出口，而这也会让他们加快处理相应的订单。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但
对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调
据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。 据悉，在日本限制出口EUV光刻胶后，韩国的东进世美肯公司就开始研发EUV光刻胶，并在去年通过了三
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